Innovation – Die PLASMA-Beschichtung ist anderen Verfahren technologisch weit überlegen. Der Kern des Prozesses ist die gezielte Pulver- und Precursoreinspeisung in den bis mehrere 10.000 Grad heißen Plasmastrahl. Zwei Schlüsselkriterien sind für die Beschichtungsqualität verantwortlich: Zum einen die geringe Wärmeinbringung in das Substrat durch den fokussierten Plasmastrahl. Zum anderen das Beschichtungsmaterial als Spezialpulver beziehungsweise als Precursordampf.
Resultat – Damit sind im Atmosphärendruck – also ohne Vakuum – extrem dichte und kompakte Beschichtungen ohne Lösungsmittel und in unerreichter Geschwindigkeit möglich. Die Plasmabeschichtungen sind selbst mit einer Stärke von wenigen µm beziehungsweise wenigen nm noch immer gut haftbar.
Möglichkeiten – Durch dieses innovative Verfahren werden Materialkombinationen möglich, die es bisher nicht gab. Insbesondere können hochschmelzende Pulver oder glasartige Schichten auf sensible Oberflächen (Papier, Holz, Kunststoffe, Folien etc.) aufgebracht werden, ohne dass die Substrate thermisch beschädigt werden. Die geringe Energieeinbringung eröffnet neue Beschichtungsperspektiven. Der wesentlich günstigere atmosphärische Prozess ersetzt teure PVD- bzw. CVD- Anlagen und auch galvanische Bäder. Ein trockener, einfacher und umweltfreundlicher Prozess ist das Ergebnis.
Kurzdarstellung der Plasmabeschichtung: Prospekt-Plasmabeschichtung.pdf
Darstellung des Beschichtungsequipements: Prospekt-Beschichtungsequipment.pdf
