Plasmabeschichten+aktivieren

Die Plasmabeschichtung ist in ihrer besonderen Technologie anderen Verfahren weit überlegen und bietet diverse Vorteile. So ergibt sich hiermit eine Vielzahl an Möglichkeiten in unterschiedlichen Einsatzbereichen.

Innovation: spezielle, hochwertige Technik zur Aktivierung und Beschichtung diverser Oberflächen

Die Basis der atmosphärischen Plasmabeschichtung bildet die gezielte Pulver- und Precursoreinspeisung, in den bis mehrere 10.000 Grad aufgeheizten Plasmastrahl. Dabei sind für unsere qualitativ hochwertige Beschichtung der jeweiligen Oberfläche mit Plasma vor allem folgende zwei Hauptkriterien verantwortlich:  

– die geringe Wärmeeinbringung in das Substrat, mithilfe des fokussierten Plasmastrahls und  

– das Beschichtungsmaterial, bei dem es sich um Spezialpulver beziehungsweise Precursordampf, handelt.

Resultate: höchst effiziente, lösungsmittelfreie und extrem schnelle Anwendungen

Die Ergebnisse der Beschichtungen unserer Plasmaanlagen können sich mehr als sehen lassen: Dank unseres besonderen Verfahrens sind im Atmosphärendruck mit Plasma, also komplett ohne Vakuum, nicht nur extrem dichte, sondern ebenfalls kompakte Beschichtungen möglich; und das vollständig Lösungsmittelfrei sowie in bisher unerreichbarer Geschwindigkeit. Die Schichten unserer Plasmatechnik bringen dabei selbst mit einer geringen Stärke, die lediglich wenige µm beziehungsweise wenige nm beträgt, eine gute Haftung mit.

Möglichkeiten: Beschichtungen mit Plasma – vielfältig und ohne thermische Beschädigungen

Dank unseres höchst innovativen Verfahrens im Bereich der Aktivierung beziehungsweise Beschichtung einer Oberfläche sind diverse Materialkombinationen möglich, die bisher nicht umgesetzt werden konnten. Vor allem ist es mit unserer Beschichtung für Plasma machbar, hochschmelzende Pulver und glasartige Schichten auf den verschiedensten Oberflächen anzubringen; und zwar ohne die diversen Substrate thermisch zu beschädigen. Dazu gehören zum Beispiel:

– Folien
– Papier
– Holz
– verschiedene Arten von Kunststoffen
– und vieles mehr.

Dank der geringen Energieeinbringung entstehen somit beispielsweise nicht nur in den Bereichen Vorbehandlung und Kunststoff vollkommen neue Beschichtungsperspektiven und -möglichkeiten, sondern auch bei diversen, weiteren Anwendungen.

Atmosphärische Plasmabeschichtung: kostengünstig und umweltfreundlich

Ein weiterer Vorteil unserer atmosphärischen Beschichtung mit Plasma ist, dass das Verfahren deutlich günstiger als teure PVD- beziehungsweise CVD-Anlagen sowie galvanischen Bädern ist und diese vollkommen ersetzt.

Das Ergebnis ist ein günstiger, trockener, einfacher und nicht zuletzt auch umweltfreundlicher Prozess.

Treten Sie ganz einfach mit unserem Unternehmen in Kontakt und informieren Sie sich über unser spezielles Verfahren, dass das Aktivieren beziehungsweise die Beschichtung der verschiedensten, sensiblen Oberflächen so effizient und kostengünstig ermöglicht.

Kurzdarstellung der Plasmabeschichtung: Prospekt-InoCoat.pdf

  • Pulverschichten

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    Pulverschichten

    Bei dieser funktionalen Beschichtung können viele metallische Pulver (z.B. Cu, Sn, Zn, Ni) auf verschiedensten Substraten (Glas, Metall, Papier, Kunststoffen) partiell aufgetragen werden. Dabei kann eine flächige oder auch strukturierte Beschichtung erfolgen. Es können aber auch Eigenschaften wie Korrosionsbeständigkeit, Leitfähigkeit, Oberflächenbeschaffenheit etc. … im Vordergrund stehen. In unserem Labor führen wir gerne gemeinsame Versuche durch.

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  • Antihaftschicht

    Hydrophobic HMDSO layer
    X

    Antihaftschicht

    Bei dieser glasartigen Schicht werden Oberflächenspannungen von ca. 23 mJ/m² erreicht, welche in der Nähe von Teflon sind, jedoch ohne Fluor-Zusätze. Weitere Eigenschaften sind Temperaturstabilität bis zu ca. 600° C und Schichtdicken von ca. 30 nm – d.h. unsichtbar und biegbar. Ein weiterer Ansatz ist, diese Schichten noch zusätzlich antibakteriell auszustatten.

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    Hydrophobic HMDSO layer
  • Haftvermittler

    Druckprozesse
    X

    Haftvermittler

    Bei diesen unsichtbaren glasartigen Schichten ist die Schichtdicke ca. 30 nm. Oberflächenenergien von ca. 80 mJ/m² können erreicht werden. Diese partiellen Schichten eignen sich, um Klebeprozesse oder auch Druckprozesse zu optimieren. Deutliche Transmissionsgradverbesserungen sind zusätzliche Effekte und werden bei Glasscheiben und Linsen eingesetzt.

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    Druckprozesse
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